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Intel眼中的“假7nm” 台积电：N7制程节点命名遵循惯例、确非物理尺度
发布时间：2020-02-25作者：青鸾传媒来源：全网营销点击：
基于三星5nm工艺的高通骁龙X60 基带已发布，台积电下半年也将基于5nm(N5)为苹果代工A14、华为代工麒麟 1020 等芯片。
显然，这对于仍在打磨14nm并在10nm供货能力挣扎的Intel来说，似乎并不利。
不过，Intel早在 2017 年就撰文抨击行业内关于流程节点命名的混乱，时任工艺架构和集成总监的Mark Bohr呼吁晶圆厂们建立套统一的规则来命名先进制程，比如晶体管密度。而且以这个标准来看的话，Intel的10nm甚至比竞品的7nm还要优秀。
此后，坊间的挺I派喊出三星、台积电是“假7nm”的口号。
对此，台积电营销负责人Godfrey Cheng做客AMD webinar活动时回应，从0. 35 微米(350nm)开始，所谓的工艺数字就不再真正代表物理尺度了。他解释，7nm/N7 是一种行业标准化术语而已，之后还有N5 等等。
他同样认为“需要寻求一种全新的、对工艺节点不同的描述化语言。”
按照Intel的建议，以逻辑晶体管密度(MTr/mm2，每平方毫米的百万晶体管数)来作为定义工艺节点的指标，将扫描触发器和NAND2 密度考虑进去，同时报告SRAM单元规模。