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2021年ASML将推下一代EUV光刻机 面向2nm、1nm工艺
发布时间：2020-02-17作者：青鸾传媒来源：全网营销点击：
作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司，荷兰ASML公司去年出售了26台EUV光刻机，主要用于台积电、三星的7nm及今年开始量产的5nm工艺，预计今年出货35台EUV光刻机。
目前ASML出货的光刻机主要是NXE：3400B及改进型的NXE：3400C，两者基本结构相同，但NXE：3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时，支持7nm、5nm。
此外，NXE：3400C的产能也从之前的125WPH(每小时处理晶圆数)提升到了175WPH。
不论NXE：3400B还是NXE：3400C，目前的EUV光刻机还是第一代，主要特点是物镜系统的NA(数值孔径)为0.33。
根据光刻机的分辨率公式，NA数字越大，光刻机精度还会更高，ASML现在还研发NA 0.55的新一代EUV光刻机EXE：5000系列，主要合作伙伴是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心。
EXE：5000系列的下一代光刻机主要面向后3nm时代，目前三星、台积电公布的制程工艺路线图也就到3nm，2nm甚至1nm工艺都还在构想中，要想量产就需要新的制造装备，新一代EUV光刻机是重中之重。
根据ASML的信息，EXE：5000系列光刻机最快在2021年问世，不过首发的还是样机，真正用于生产还得等几年，乐观说法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE：5000系列光刻机上市。